排ガス処理装置（除害装置）

排ガス処理装置（除害装置）は、半導体/ 液晶製造工程で排出される有害な気体（排ガス）をリアルタイムで浄化し、
環境負荷を最小限に抑える重要な役割を果たします。
当社は、韓国の半導体/液晶プロセス向け大手メーカーUNISEM 社製の除害装置を取り扱っています。
半導体製造プロセスの高度化や環境規制の強化に合わせ、環境規制の強化で、より高性能で効率的な処理装置の開発が
進められています。
装置の選定から設置、メンテナンスまで一貫したサポート体制を整え、お客様のご使用条件に合った最適な設備をご提案します。

UNISEM 社製の排ガス処理装置の特徴

同社の排ガス処理装置は、半導体/ 液晶製造工程で発生する各種有害ガスを効率的に処理し、環境負荷を最小限に抑えながら
24 時間連続運転において安定した処理性能を維持します。半導体製造現場の限られたスペースへの設置が可能で、
製造装置との接続が簡単に行えるよう設計されています。
また、自動監視システムや異常検知機能を標準装備し、万が一の異常時にも速やかに対応。
作業者の安全確保と製造ラインの安定稼働を実現します。定期的点検や部品交換が効率的に行えるようメンテナンス性に優れ、
ダウンタイムを最小限に抑えた製造ラインの稼働率向上に貢献します。
水素や触媒を使った除害装置を開発し、脱炭素に向けた製品づくりにも力を入れています。

環境への
配慮
低コスト
省スペース
省エネ
充実した
保守サービス

製品一覧

BURN-WET SCRUBBER

燃焼式の除害装置で、
有毒ガスを燃焼・水処理を行う装置
燃焼モードの可変可能
（大流量処理も可能）
- PFC GAS 処理適合
- LNG 仕様
- 直接燃焼方式
PLASMA SCRUBBER

plasma 式の除害装置で、難分解性のCF4 の処理が可能
※省エネに繋がるオプションあり
- PFC GAS 処理適合
- PLASMA JET 利用
WET-BURN-WET SCRUBBER

前段水処理搭載装置水処理⇒燃焼or plasma⇒水処理にて生成物抑制に
つながる
- Powder pre-treatment
- Powder 生成GAS の処理
- 直接燃焼方式
HEAT-WET SCRUBBER

ヒーター式の除害装置で、省エネを標準装備
- 可燃性、水溶性GAS の処理
- HEATER の間接加熱
RESIN SCRUBBER

乾式除害装置で、PCF 処理効率95%以上が可能（大流量の処理も可能）
- 毒性、腐食GAS の処理
- 乾式 Scrubber

その他オプション

1. 乾燥システムまたは除湿器を搭載し排気へのケア
2. Heater Jacket 代替技術あり
3. Scraper 代替技術あり
4. 各種腐食対策あり
5. 工場排気へのPowder 抑制装置もラインナップにあり
6. Host との通信可能
7. リアルタイムで処理効率分析技術確立済
8. 脱炭素技術あり
9. 省エネ技術多数あり

除害対象ガス

1. PFC ガス：NF3,C2F6,SF6,CF4,C3F8,,, 等
2. 燃焼除害ガス：SiH4,PH3,TEOS,H2,DCS,,, 等
3. 水処理除害ガス：Cl2,HCl,HF,NH3,,, 等

メーカー：UNISEM.Co.,Ltd（韓国）

西村ケミテックの強み

01
柔軟性

ハード、ソフト共に、各種設計変更に柔軟に応じます。豊富な実績と技術力によってお客様の装置プロセス毎に最適な除害のカスタマイズ提案が可能です。
02
短納期

仕様の確定からご発注後、迅速なリードタイムで納品が可能です。高精度・高品質・高耐久を追求したUNISEM 社製の排ガス処理置を短納期でお届けします。
03
対応力

搬入立上げからメンテナンス、トラブル対応まで、全て弊社エンジニアで対応可能。2018 年にUNISEM-Japan 設立し、更にフレキシブルな対応が可能になりました。