①スラリー / ケミカル希釈供給システム
超純水と、スラリー原液＋添加剤（H202）等をCMP装置直前で調合し供給する装置です。（多液混合）
供給濃度の可変も容易、供給中の変更も可能。消費期限、経時劣化などをきにすることなく、PureSlurryを供給できます。
②ドラムキャビネット完全自動化システム（D/C自動装置）
従来手動でドラム交換作業などで発生する問題（ドラムの落下・転倒、セットアップのミス、薬液のロス）を解決したドラム交換・供給の完全自動化を実現しました。
24時間対応可能なドラム交換で安定的原液供給が可能となりますので、ドラム交換のコストとタイムロスを削減し、稼働効率をアップします。

NYSのIn-Line Mixingを特長としたSlurry/Chemical供給システムに、高精度・高倍率希釈調製システム、
LPC MonitorとChemical MonitorをOn-Line統合したシステムをご提案。

Lab.分析装置と同等の精度を持つ、LPC計測、Chemical濃度測定をOn-Line統合しトレンド管理を行う事で、
供給するSlurry/Chemical起因のトラブルを抑制、より高精度な濃度コントロールを可能とします。

UNISEMは、韓国を代表する半導体/液晶プロセス向けの除害装置/Chillerメーカーです。
除害装置の場合、Burn-wet式、Plasma式など様々なラインナップを持っており、
国内デバイスメーカー向けに500台以上の実績を持っております。
台数増に伴い、西村ケミテックはUNISEM社との連携強化し、立上、保守、メンテ、トラベル対応まで国内窓口として役割を果たしております。

韓国の真空装置メーカーLOT VACUUMは、半導体/液晶/太陽光向けのドライ真空ポンプのメーカです。
半導体、ディスプレイパネルの前工程の多くは、真空状態で行われるため、
真空ポンプで一定の空間で気体を含む各種の物質を吸って真空状態を作ります。
同社ポンプは、同じ形のネジカップル噛み合っ回転しながら気体を吸入、排気するスクリュー（Screw）方式であり、
競合他社が活用するルーツ（Roots）と比較して部品数が少なく、排気量が高いのがメリットです。

ポンプ前段部分（真空配管）に装着して、毒性/引火性ガスを安全なガスに処理するシステムです。
配管PM時の際、ZrO,HfO,TiOなどプロセス副産物による発熱、発火、爆発などを防ぐため、
環境安全観点から該当工程では多く採用されております。

特徴
毒性/引火性ガスを安全なガスに改質処理
副生成物を分解・排気
副生成物のParticleサイズを最小化
PumpのMTBFを延⾧(メンテナンスコストを削減)

SEMI-TSは2014年に設立され、半導体製造プロセスに欠かせないAMHSソリューション事業を開始
300mm FABのクリーンコンベア/E84センサー事業/スマートパージシステム/Smart OHT開発などを行っている。

レーザ加工用水溶性保護膜
レーザ加工用水溶性保護膜は、水性ポリマー溶液で、レーザ加工面にスピンコートすることで
デブリ付着を大幅に抑制し、デバイスの信頼性向上に貢献します。

ダイシング添加剤
ダイシング添加剤は、水性のポリマー溶液で、レードダイシングで発生するウェーハの破片を
素早く分散させ、ウェーハ表面に破片が蓄積するのを防ぎ、腐食や汚染の問題を軽減します。

高性能・低コストのSWIRイメージセンサを実現するために、
イメージセンサまたはセンサ材料および半導体製造を支援する量子ドット製品および技術サービスを提供。
既存のSWIR技術と比較し大幅にコストダウンを実現し将来のSWIR製品市場に変革をもたらします。