PRODUCTS

海外製高純度薬液・ガス

  • 主な製品
  • 過酸化水素水、リン酸、硫酸、メタルエッチング液、有機金属化合物ほか
  • 荷姿
  • ポリ容器、ケミカルドラム、IBC容器(1m³) 、キャニスター、ISOコンテナー(20ft)
  • 取り扱いメーカー
  • OCI Company Ltd.(韓国)、Lanxess (ドイツ)、湖北興福電子材料有限公司(中国)、ほか

POINT

高品質でより安価なケミカルを提供いたします。
また、海外製品を採用することで、BCP対策にも寄与します。

ドライ真空ポンプ

LOT Vacuumは、半導体およびFPD製造工程で使用される、真空ポンプの開発、製造、販売を行う会社です。
全世界で20,000台以上の販売実績を持ち、韓国半導体市場でのCVD工程では80%以上のシェアを持つNo.1メーカーです。

POINT

スクリュー方式とルーツ方式を混合したハイブリッド方式の真空ポンプを開発。
排気量が高く、ノイズと消費電力を減らせるのが特徴。

エンドポイント検出器(Endpoint Detector)

電流、電圧、位相角、インピーダンスなどから、成膜プロセスをモニタリングする装置です。チャンバー内の異常を検知し、
装置を停止させることが出来、歩留まりを向上させます。また、クリーニング中のエンドポイントを最適化することが出来、
NF3などのクリーニングガスの削減、シャワーヘッドなどのプロセスキットの長寿命化に貢献します。

POINT

インピーダンスに基づいたエンドポイント検出の為、光学式などに比べ高い信頼性を誇ります。
また、オプティカルウィンドウの様な劣化による交換部品が無く、メンテナンスフリーです。
多くの半導体、FPD、太陽電池、PECVD/CVD装置に適用します。:AMAT、LAM/Novellus、SPTS、AKT、ULVAC など

金属不純物分析システム

WCS-300M:全自動/ 一体型VPD-ICP-MS システム

ウエハー上の金属汚染をsub-ppt レベルで高感度分析が可能な装置です。
高い安全性を持ち、サンプリング、前処理から後洗浄まで自動化した全自動VPD-ICP-MS システムです。

POINT

Sampling/VPD/ICP-MS を省スペースの筺体に収めた一体型システム。
ICP-MS システム校正、サンプルチューブの自動洗浄、清浄度の自己診断、スキャン溶液、クリーニング溶液の
自動調製により前処理、後処理まで自動化。

OCIM:Online ケミカル汚染監視システム

ケミカル、UPW、ガス中の金属不純物をsub-ppt レベルでOn-Line/Real-Time 分析が可能な装置です。
安全かつサンプルの汚染を防止した全自動サンプリング/ 分析システムです。

POINT

Sampling/ 前処理/ 測定/ 後洗浄まで全自動で行うオンライン監視システム
最大60ch を1 つのメインユニットで測定可能
インターロックシステムと連動したリークセンサーとガス検知器を装備

除害装置/Chiller

除害装置、チラー装置は韓国の
優良メーカー UNISEM 社製をご案内

  • Back-Up機能

  • 低コスト

  • 省スペース

  • 省エネ

  • 全ガス対応

  • 充実した保守
    サービス

UNISEMは、韓国を代表する半導体/液晶プロセス向けの除害装置/Chillerメーカーです。
特に除害では燃焼式、プラズマ式、ヒーター式、ハイブリッド式など、製造工程や処理ガスの特性、排ガス処理量等に応じ様々な製品を取り揃えております。
日本でも数100台の納入実績があり、各お客様向けのカスタマイズ設計もフレキシブルに対応できることが評価されています

POINT

除害では大容量を必要としたり、生成物が多いCVD工程を得意としています。
除害、Chiller共に省エネ/省サイズ含めた次世代向け装置の研究開発にも力を入れています。
経験豊富なUNISEMと、西村ケミテックによる現地サポートとのコラボレーションで、最適な装置設計と立上げ~保守までの
アフターサービスをご提供いたします。

除害装置

  • システム概要(一例)
  • 1.タイプ:プラズマ式
  • 2.PFC,THC,NOxガスに対し、高い除害性能
  • 3.乾燥システム又は除湿機を搭載し、
    排気への水上がりを最小化
  • 4.安全インターロックシステム完備+防爆構造
  • 5.省エネシステム搭載により、
    相対的に低いランニングコストを実現
  • 6.容易な操作性+簡易的なメンテナンス性
  • 7.腐食対策構造
  • 8.Sマーク認証済
  • 除害対象ガス
  • 1.PFCガス:NF3,C2F6,SF6,CF4,C3F8,,,等
  • 2.燃焼除害ガス:SiH4,PH3,TEOS,H2,DCS,,,等
  • 3.水処理除害ガス:Cl2,HCl,HF,NH3,,,等

チラー装置

  • 仕様及び実績データ(一例)
  • 仕様:1チャンネル
  • 温度範囲:‐20℃~80℃
  • 温度制御範囲:±0.01℃(アイドル状態0)
  • 冷却能力:6,000W at 20℃
  • 冷媒流量:20LPM
  • タンク容量:6.5L
  • 冷媒流量:FC-3285
  • サイズ(mm):500*500*500(W*D*H)
  • コンプレッサー(スクロール):0.5Kw~1.5Kw(インバーター)
  • ヒーター(カートリッジ):3.0Kw
  • 通信仕様:アナログ、シリアル
  • 評価項目:20℃負荷テスト
  • 戻り温度:23.1℃
  • 供給温度:20℃
  • 温度振れ幅:アイドル:±0.01℃/稼働:±0.1℃
  • 消費電力:1.7Kwh
  • 主な特徴
  • 1.負荷応答速度の向上
  • 2.省エネ
  • 3.最適なトレンド応答
  • 4.コンパクトチラー
  • 特記事項
  • 高い精度で即時応答
  • カスケード制御による電力削減
  • コンプレッサーとポンプをインバータ制御し、電力最適化
  • EEV&ホットガスバルブコントロールで最適な温度コントロール
  • 最適レイアウトで、チラーサイズを最小化

SUPPORT

サポート体制 サポート体制
営業 Gr

● お客様/UNISEMとの仲介・折衝対応

● 仕様打合せ、トラブルコールなどの対応

F/E Gr

● 立上げ、保守、メンテナンス、トラブル対応

UNISEM
常駐
スタッフ

● 本国への詳細なフィードバック

※その他はF/E Grと同様

営業 Gr

● 日本での展開で必要な全てのサポート

電気/
設計Gr

● ハード、ソフトの仕様設計

● 改造/改善の設計提案

R&D Gr

● 主に除害性能効率Upや
R’n cost削減の為の研究/実験を行う